빔 에미터 참조

문서 요약: 이 문서는 빔 에미터에 사용되는 모듈에 대해 설명합니다.

문서 변경 내역: Scott Sherman 작성 및 유지 관리.

개요

Beam TypeData 모듈

이 모듈은 ParticleSystem 이 효과에 사용할 BeamEmitterInstance 를 생성하는 데 필요합니다. 여기에는 다음과 같은 구성원이 포함됩니다.

BeamMethod 이 열거는 빔 생성을 위한 메소드 설정을 제공합니다. 다음 중 하나가 될 수 있습니다.

메소드	설명
PEB2M_Distance	거리 등록 정보를 사용하여 에미터의 X축을 따라 빔을 방사합니다.
PEB2M_Target	에미터 출처로부터 제공된 대상으로 빔을 방사합니다.
PEB2M_Branch	현재 사용되지 않습니다.

TextureTile 빔과 함께 텍스처를 타일링하는 횟수입니다. 현재 구현되지 않았습니다.

TextureTileDistance 빔을 따르는 거리로, 출처 텍스처의 한 타일을 나타냅니다.

Sheets 빔에 따라 렌더링될 시트 수입니다. 시트는 빔 경로를 따라 평활 배분됩니다. 예를 들어 빔이 아래로 이동하는 축 아래를 보면 크로스에 대한 두 시트가 있습니다.

MaxBeamCount 에미터가 가질 수 있는 최대 라이브 빔 수입니다.

Speed 발사 시 빔이 출처에서 대상으로 이동하는 속도입니다. 이 값이 0으로 설정되면 빔이 출처에서 대상으로 즉시 이동합니다.

InterpolationPoints 빔이 출처와 대상 탄젠트를 사용하여 빔을 따라 곡선을 삽입할지 여부를 표시합니다. 이 값이 0 이하이면 빔이 출처부터 대상까지 직선으로, 삽입이 없습니다. 0보다 크면 빔이 해당 탄젠트 값을 활용하는 둘 사이에 삽입함으로써 출처와 대상 간의 경로를 결정합니다. 이 작업 중 사용하는 단계 수는 이 등록 정보에 설정된 값이 됩니다.

bAlwaysOn TRUE인 경우 에미터가 항상 활성화된 입자가 있는지 확인합니다.

BranchParentName 현재 사용되지 않는 기능입니다.

Distance 이 부동 배분은 BeamMethod가 PEB2M_Distance 로 설정되었을 때 빔이 X축을 따라 이동하는 거리입니다.

TaperMethod 길이를 따라 빔이 차츰 가늘어지는 방식입니다. 다음 값 중 하나가 될 수 있습니다.

메소드	설명
PEBTM_None	빔이 차츰 가늘어지지 않습니다.
PEBTM_Full	현재 빔 길이에 관계없이 대상을 향해 이동하는 출처에 상대적으로 빔이 차츰 가늘어집니다.
PEBTM_Partial	현재 사용되지 않습니다.

TaperFactor 빔이 차츰 가늘어지는 크기를 제공하는 분포입니다. 일관된 곡선을 사용할 경우 시간 값 0.0 은 빔의 출처에서 가늘어짐을, 시간 값 1.0 은 대상에서 가늘어짐을 나타냅니다.

TaperScale 차츰 가늘어짐을 조절하는 크기입니다. 사용되는 최종 가늘어짐 값은 Taper = (TaperFactor * TaperScale)입니다. 이는 주로 용도에 해당하는 빔의 가늘어짐에 대한 크기 조절 인수를 게임 코드로 설정할 수 있도록 하는 입자 매개 변수 분포로 사용됩니다.

RenderGeometry TRUE(기본값)인 경우 빔의 실제 지오메트리가 렌더링됩니다.

RenderDirectLine 디버그 헬퍼 플래그입니다. TRUE 인 경우 빔의 출처 및 대상 간 직접 라인이 렌더링됩니다.

RenderLines 디버그 헬퍼 플래그입니다. TRUE 인 경우 빔의 각 구분을 따라 라인이 렌더링됩니다.

Beam Source 모듈

이 모듈은 빔 에미터의 단일 출처를 구현합니다. 소스 모듈이 빔 에미터에 없는 경우 에미터 위치 자체를 출처로 사용합니다. 여기에는 다음과 같은 등록 정보가 포함됩니다.

SourceMethod 이 열거는 빔 출처 위치를 구하는 메소드 설정을 제공합니다. 다음 중 하나가 될 수 있습니다.

메소드	설명
PEB2STM_Default	출처 분포를 사용합니다.
PEB2STM_UserSet	사용자 설정 값을 사용합니다.
PEB2STM_Emitter	에미터 위치를 출처로 사용합니다.
PEB2STM_Particle	현재 사용되지 않습니다.
PEB2STM_Actor	특정 이름을 갖는 액터의 위치를 사용합니다.

SourceName 출처로 사용할 액터의 이름입니다. SourceMethod 가 PEB2STM_Actor 로 설정된 경우에만 사용됩니다. 액터가 없으면 대안으로 출처 분포를 사용합니다.

bSourceAbsolute TRUE인 경우 출처를 세계 공간 내 절대 위치로 취급합니다(즉 변환하지 않음).

Source 출처 위치의 설정을 허용하는 벡터 분포입니다. 이 메소드가 Default 로 설정되었거나 메소드가 출처 지점을 파악하지 못한 경우에 사용합니다. 이 값은 현재 에미터 시간을 통해 분포로부터 검색됩니다.

bLockSource TRUE인 경우 출처 위치를 파생 시점으로 설정합니다.

SourceTangentMethod 이 열거는 빔 출처 탄젠트를 구하는 방법 설정을 제공합니다. 다음 중 하나가 될 수 있습니다.

메소드	설명
PEB2STTM_Direct	출처와 대상 간 직접 라인을 사용합니다.
PEB2STTM_UserSet	사용자 설정 값을 사용합니다.
PEB2STTM_Distribution	SourceTangent 분포의 값을 사용합니다.
PEB2STTM_Emitter	에미터가 대면한 방향을 사용합니다.

SourceTangent 출처 탄젠트 설정을 허용하는 벡터 분포입니다. SourceTangentMethod 가 PEB2STTM_Distribution 으로 설정된 경우 사용합니다. 이 값은 현재 에미터 시간을 통해 검색됩니다.

bLockSourceTangent TRUE인 경우 출처 탄젠트를 파생 시점으로 설정합니다.

SourceStrength 각 빔에 대해 출처 지점으로부터 탄젠트의 강도를 제공하는 부동 분포입니다. 이 값은 현재 에미터 시간을 통해 검색됩니다. 이 강도는 Source/SourceTangent 를 구하는 데 사용한 메소드에 관계없이 사용됩니다.

bLockSourceStrength TRUE인 경우 출처 강도를 파생 시점으로 설정합니다.

Beam Target 모듈

이 모듈은 빔 에미터의 단일 대상을 구현합니다. 대상 모듈이 빔 에미터에 없는 경우 에미터는 빔이 방향성으로 사용되었다고 가정합니다. 여기에는 다음과 같은 등록 정보가 포함됩니다.

TargetMethod 이 열거는 빔 대상 위치를 구하는 방법 설정을 제공합니다. 다음 중 하나가 될 수 있습니다.

메소드	설명
PEB2STM_Default	대상 분포를 사용합니다.
PEB2STM_UserSet	사용자 설정 값을 사용합니다.
PEB2STM_Emitter	현재 지원되지 않습니다.
PEB2STM_Particle	현재 지원되지 않습니다.
PEB2STM_Actor	특정 이름을 갖는 액터의 위치를 사용합니다.

참고: Emitter 또는 Particle 로 설정된 경우 대상이 분포의 값을 사용합니다.

TargetName 대상으로 사용할 액터의 이름입니다. TargetMethod 가 PEB2STM_Actor 로 설정된 경우에만 사용됩니다. 액터가 없으면 대안으로 대상 분포를 사용합니다.

Target 대상 위치의 설정을 허용하는 벡터 분포입니다. 이 메소드가 Default 로 설정되었거나 메소드가 대상 지점을 파악하지 못한 경우에 사용합니다. 이 값은 현재 에미터 시간을 통해 분포로부터 검색됩니다.

bTargetAbsolute TRUE인 경우 대상을 세계 공간 내 절대 위치로 취급합니다(즉 변환하지 않음).

bLockTarget TRUE인 경우 대상 위치를 파생 시점으로 설정합니다.

TargetTangentMethod 이 열거는 빔 대상 탄젠트를 구하는 방법 설정을 제공합니다. 다음 중 하나가 될 수 있습니다.

메소드	설명
PEB2STTM_Direct	출처와 대상 간 직접 라인을 사용합니다.
PEB2STTM_UserSet	사용자 설정 값을 사용합니다.
PEB2STTM_Distribution	TargetTangent 분포의 값을 사용합니다.
PEB2STTM_Emitter	에미터가 마주한 방향을 사용합니다.

TargetTangent 대상 탄젠트 설정을 허용하는 벡터 분포입니다. TargetTangentMethod 가 PEB2STTM_Distribution 으로 설정된 경우 사용합니다. 이 값은 현재 에미터 시간을 통해 검색됩니다.

bLockTargetTangent TRUE인 경우 대상 탄젠트를 파생 시점으로 설정합니다.

TargetStrength 각 빔에 대해 대상 지점으로부터 탄젠트의 강도를 제공하는 부동 분포입니다. 이 값은 현재 에미터 시간을 통해 검색됩니다. 이 강도는 Target/TargetTangent 를 구하는 데 사용한 메소드에 관계없이 사용됩니다.

bLockTargetStrength TRUE 인 경우 대상 강도를 파생 시점으로 설정합니다.

LockRadius 현재 빔 끝이 대상 지점에 잠긴 것으로 간주되는 구면의 반경입니다. 속도 값이 설정된 빔을 활용할 때 사용합니다.

Beam Noise 모듈

이 모듈을 통해 빔을 따라 노이즈를 주입할 수 있습니다. 여기에는 다음과 같은 등록 정보가 포함됩니다.

bLowFreq_Enabled TRUE인 경우 저진동 노이즈가 활성화됨을 나타냅니다. [참고: 현재 저진동 노이즈만 지원됩니다.]

Frequency 빔을 따르는 노이즈 지점의 진동입니다.

Frequency_LowRange 0보다 크면 이 값은 진동 범위의 하한을 나타냅니다. 입자의 파생 시점에서 이에 대한 진동이 [Frequency_LowRange..Frequency] 범위에 설정됩니다.

NoiseRange 노이즈 지점 위치 범위를 제공하는 분포입니다. 일관된 곡선을 사용할 경우 이 매핑에서 시간 0.0f 는 최초 진동 지점을, 1.0 은 대상 지점을 나타냅니다. 나머지 지점은 (CurrentFrequencyPoint * (1.0/TotalFrequencyPoints)) 를 사용하여 파악합니다.

NoiseRangeScale 이 분포는 에미터 시간에 따라 노이즈 범위의 크기를 조절하는 메소드를 제공합니다.

bNRScaleEmitterTime TRUE 인 경우 에미터 시간을 사용하여 NoiseRangeScale 결과를 검색합니다. FALSE 인 경우 입자 시간을 사용하여 NoiseRangeScale 결과를 검색합니다.

NoiseSpeed 노이즈 지점이 이동하는 속도를 제공하는 벡터 분포입니다.

bSmooth TRUE 인 경우 노이즈 지점 간의 평활 이동을 시도합니다.

NoiseLockRadius 잠겼음을 표시하는 노이즈 지점 주변 구면의 반경입니다.

bOscillate TRUE 인 경우 노이즈 지점이 빔 직선을 넘어 앞뒤로 바운드됩니다.

NoiseLockTime 새로운 노이즈 지점을 선별하기 전에 노이즈 지점이 잠긴 상태여야 하는 기간을 나타냅니다.

NoiseTension 테셀레이션 노이즈 라인에 적용되는 압력입니다.

bUseNoiseTangents 사용되지 않습니다.

NoiseTangentStrength 빔을 따라 삽입하는 중에 노이즈 지점에서 탄젠트에 적용되는 강도입니다.

NoiseTessellation 노이즈 지점 간에 삽입할 지점 수입니다.

bTargetNoise TRUE 인 경우 대상 지점에 노이즈를 적용합니다.

FrequencyDistance 노이즈 지점을 배치할 거리입니다. 이 값이 0.0이면 표준 진동/Frequency_LowRange 쌍을 사용하여 노이즈 지점의 진동을 결정합니다. 0.0 이 아니면 노이즈 지점이 최대 고정 Frequency 값까지 주어진 거리에서 분산됩니다. 이를 통해 더 짧은 빔에서 더 적은 노이즈 지점이 있게 되며 빔이 커질 때 노이즈 지점이 자동으로 추가됩니다.

bApplyNoiseScale TRUE 인 경우 NoiseScale 을 빔에 적용합니다.

NoiseScale bApplyNoiseScale 이 true 일 때 노이즈 범위에 적용되는 크기 조절 인수입니다. 이 분포의 조회 값은 존재하는 노이즈 지점 수를 최대 노이즈 지점 수(즉 진동)로 나누어 결정합니다.