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UE3中的VFX优化


概述


本文假设您先前已经了解Cascade、材质编辑器、Kismet、Matinee及常见的相关性能问题的效果。 用很多种途径可以获得性能问题的解决方案,本文尝试概述了Epic的特效团队通过使用UE3中提供的工具来解决这些性能问题的方法。

VFX优化主题

术语


Emitter(发射器)
cascade中的一堆模块。
Module(模块)
用于决定粒子行为的一个发射器组件。
Particle System(粒子系统)
一个单独的发射器或多个发射器的组合物。
Particle System Component(粒子系统组件)
一个粒子系统实例。
Emitter Actor(发射器Actor)
放置在场景中的Actor,该Actor引用粒子系统组件。

降低特效性能的常见因素


Overdraw(过度描画)
粒子所覆盖的屏幕空间量和这些粒子上的指令的数量。Overdraw(过度描画量) = 层数量 * 所影响的像素的数量。(GPU)
Tick Time(更新时间)
更新所有粒子占用游戏线程的时间量(游戏线程)。
Draw Calls(描画调用)
为GPU准备的状态设置(渲染线程)。
Bounds Calculation(边界计算)
更新特效的边界所花费的时间量,该边界用于基于相机平头截体来决定可见性。(特效边界是否可见?)

这些主要问题还有很多可以导致出现问题的子集,对于每个子集,通常有一个工具供我们管理性能问题。

特效性能的核心系统


GPU
在屏幕上描画像素所花费的时间量(过度描画)。
Game Thread(游戏线程)
更新粒子系统行为所花费的时间量(更新时间)。
Render Thread(渲染线程)
打包粒子几何体和相关描画调用所花费的时间量(描画调用)。

一旦您找到了问题的所在之处,您可以使用以下方法开始进行优化: